在全球半導體產業加速向先進制程迭代的大背景下,超純水的重要性日益凸顯。作為芯片制造中清洗、刻蝕等環節的關鍵介質,超純水的純度與穩定性直接影響著晶圓良率與生產效率。在這一背景下,高頻科技憑借先進的超純工藝實現電子級超純水制備,滿足了高端芯片制造的需求,更以高效節水解決方案驅動產業鏈降本增效,成為推動行業高質量發展的重要力量。

精進超純工藝,助力半導體良率和生產效率躍升

半導體制造對超純水的要求極為嚴格,其電阻率需高達18.2MΩ·cm,且對離子、有機物、微生物等雜質的容忍度極低。任何微小的雜質都可能導致晶圓電路短路或性能衰減,進而影響產品性能、降低良率,最終拖累企業生產效率。

超純水如此高的指標要求,背后是極為復雜和精細的制備工藝。在國內,高頻科技是極少數能夠在芯片領域提供超純水系統的企業,亦是國內首家具備12英寸14nm芯片產線超純水制備能力的系統供應商。該公司長期專注超純水領域,依托資深的技術團隊,經過持續研發投入與工藝探索,其超純水系統制備的超純水純度可達ppt級別,離子含量僅萬億分之一,充分滿足了下游客戶生產全階段的超純水需求,為半導體良率和生產效率的提升提供了強力支撐。

高效節水,助力降本增效可持續發展

半導體是“耗水大戶”,且隨著工藝日趨先進,對其表面清潔程度要求不斷提高,耗水量也隨之增加。以每月生產4萬片200mm晶圓的工廠為例,其日用水量可達到8000至10000噸。而當技術節點推進至16nm甚至7nm時,同等產能的12英寸晶圓廠每日用水量將激增至約2萬噸。如何在保障超純水供應的同時,實現水資源的節約和高效利用,已成為全球半導體行業面臨的共同挑戰。在此背景下,高頻科技憑借其創新研發的回用水系統,為解決這一難題提供了新的思路和解決方案。

高頻科技不僅掌握了先進的純水制備與廢水處理工藝,能夠深度凈化水質,滿足后續制程的嚴苛標準;更具備前瞻性的系統設計能力,通過對制程中產生的30余種廢水進行精細化分流和管理,如純水再生濃水、低濃度氫氟酸、研磨、酸/堿以及洗滌塔廢水等,結合針對性處理工藝,實現了廢水的高效回用。高頻科技的項目可實現整廠用水回收率高達90%,在保障水質的同時,助力企業降本增效,實現可持續發展。

半導體產業作為現代科技的國之重器,其發展水平已成為衡量一個國家科技實力和綜合國力的重要標志。高頻科技作為聚焦于芯片制造等電子核心產業的超純水系統供應商,始終以研發創新為驅動,持續精進超純水工藝,為我國半導體產業的高質量發展添磚加瓦。隨著半導體產業鏈創新活力的不斷增強,行業正向著更先進、更綠色的未來蓬勃發展,相信高頻科技將繼續以創新之力,為行業向上發展貢獻力量。

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